库存--国产Mo-Si 13.5nmEUV极紫外反射镜--用于太阳光谱仪任务的宽带EUV/FUV镜面涂层
马克斯·普朗克太阳系研究所，Justus-von-Liebig-Weg 3号，37077 哥廷根，德国b optiX fab有限公司，Hans-Knöll-Straße 6号，07745 耶拿，德国摘
马克斯·普朗克太阳系研究所，Justus-von-Liebig-Weg 3号，37077 哥廷根，德国b optiX fab有限公司，Hans-Knöll-Straße 6号，07745 耶拿，德国摘
作者信息：Anton Haase, Victor Soltwisch, Frank Scholze隶属：德国物理技术研究院（Physikalisch-Technische Bundesanstalt）
摘要我们对Mo/Si多层膜在波长为13.5 nm的EUV辐射下进行了1次脉冲（1-on-1）和10次脉冲（10-on-1）的损伤阈值研究。实验使用了以固体金为靶材的桌面激光等离子体光源。研究涉及不同类
摘要使用离子束沉积在硅晶片基底上制备了用于极紫外 (EUV) 光刻的 Mo/Si 多层膜。通过透射电子显微镜、二次离子质谱、原子力显微镜、光电子能谱、掠入射时的 X 射线反射率和近乎垂直入射时的 EU
基地材质：铝合金镀膜：磁控溅射镀金形状;离轴抛光面反射镜如果有需要可以联系：我们提供定制镀膜服务(紫外（13.5nmMo/Si平面反射镜（反射率63%）193nm 266nm 355nm 405nm平
本文研究了用于 7 nm 及以下节点光刻应用的反射式极紫外 (EUV) 镜的光学特性。通过使用传统的四分之一波长堆叠布拉格反射结构的 Si 基金属多层膜，中心位于软 x 射线 13.5 nm，在接近法
紫外镀膜--用于 193nm 应用的 Al2O3 ，LaF 3 和 AlF3 高反射率反射镜
多光谱镀膜--用于多光谱遥感的光刻图案化带通滤波器阵列
摘要:随着星间通信系统的迅速发展,数据传输的精度要求不断提高。分光镜作为系统的核心元件,其光谱特性和面形精度直接影响整个系统的传输精度。本文基于薄膜干涉理论,选取 Ta205,与 Sio2,作为高低折
前言：在福州由于福建物构所的存在培养出了丰富的 晶体生长，晶体镀膜，晶体冷加工企业，比如物构所直属的福晶科技 ，腾景科技 ，当然还包括我本人曾经的工作单位 也是做晶体起家， 晶体在光学领域具有巨大的作
超窄带滤光片--绿光波段532nm 0.06nm 超窄带滤光片的基材选择，制备工艺，产品检测
本文分享一个来自益瑞电的文章，我在福州工作期间，多次到美国出差，看过很多美国光学镀膜企业，他们有一个特点，都是历史悠久的企业，有些超过了 20年，30年，40年，从事单一的镀膜工作这么长时间，积累的技
上海陶藤电子科技有限公司
Auxcera（上海陶藤电子科技有限公司）创建于2022年，公司位于上海市宝山区，我们为半导体，消 费电子，AR/VR，仪器，激光雷达等领域提供可靠的，性能卓越的镀膜服务
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